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l    鋼研納克直讀光譜儀，制造業(yè)“單項(xiàng)冠軍”產(chǎn)品。

l    長期致力于光譜分析技術(shù)及儀器制造技術(shù)。

l    GB/T 4336-2016 碳素鋼和中低合金鋼_多元素含量的測定_火花放電原子發(fā)射光譜法(常規(guī)法)國家標(biāo)準(zhǔn)起草者。

l    可對 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、Sn 等金屬及其合金進(jìn)行快速精確的分析，完全滿足爐前快速定量分析及實(shí)驗(yàn)室檢測要求。

l    SparkCMOS 8000 型全譜火花直讀光譜儀以其卓越的性能和廣泛的應(yīng)用范圍，成為冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè)的分析工具。在汽車制造、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用。

（盧經(jīng)理：13063833312）

儀器參數(shù)

電源要求:220V±10%，單相，10A，2.5KVA。

重量:100kg。

檢測器靈敏度

高靈敏度 CMOS 檢測器，精薄鍍膜，紫外波段檢出限更低，可做低含量線性度好，圖像滯后小，工作頻率范圍寬，可在1~10MHz 下工作。

萬級超凈環(huán)境下打造光學(xué)系統(tǒng)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)羅蘭一體化光學(xué)系統(tǒng)，無像差，分辨率均勻，高發(fā)光全息光柵，光柵焦距 500mm，刻線為2700條/mm，波長范圍:130-800nm，可分析基體配置 不小于8種。

啟動便捷，成本大幅降低

光室： 有環(huán)境溫度自動補(bǔ)償功能，使儀器始終保持良好狀態(tài)。潮汐式?jīng)_洗方式，冷機(jī)(關(guān)機(jī)12小時(shí))啟動只需 30min，熱機(jī)啟動時(shí)間5min，智能判斷分 析間隔時(shí)間，合理補(bǔ)充氣，降低氣消耗60ml/min 低待機(jī)流量，一瓶氬氣 24 小時(shí)待機(jī) 70 天。

分片式曝光，痕量元素識別強(qiáng)度大幅提高，檢出限更低

一次激發(fā)，分片曝光，同時(shí)采集，同時(shí)回?cái)?shù)，獨(dú)立控制不同CMOS的積分曝光時(shí)間，提升痕量元素的強(qiáng)度，降低儀器的檢出限，隨波段調(diào)節(jié)積分時(shí)間，提升儀器的穩(wěn)定性。

1. 萬級超凈環(huán)境下打造的高分辨大色散光學(xué)系統(tǒng)，采用全息光柵，光柵焦距500mm，譜線范圍更寬，分辨率更高，可分析N、Li、Na等。

2. 采用高分辨率線陣CMOS檢測器，集成性更高、讀取速度更快、功耗更低、長期穩(wěn)定性更高。

3. 專利的全數(shù)字高穩(wěn)定性激發(fā)光源，頻率可高達(dá)1000Hz，對不同的材質(zhì)可以匹配不同的光源條件實(shí)現(xiàn)優(yōu)良的分析結(jié)果。

4. 全新的整體恒溫屏蔽技術(shù)，溫度控制精度±0.1℃，加熱均勻、穩(wěn)定，隔絕環(huán)境溫度影響，保證光學(xué)系統(tǒng)穩(wěn)定。

5. 智能的潮汐式?jīng)_洗技術(shù)，冷機(jī)啟動時(shí)間縮短至30min，大大節(jié)省了等待時(shí)間，提高了整體運(yùn)營效率。智能判斷分析間隔時(shí)間，合理補(bǔ)充氣，降低氣消耗大大降低運(yùn)行成本。

6. 一體化的透鏡隔離閥，自動隔斷激發(fā)臺與光學(xué)系統(tǒng)，以防止因日常維護(hù)導(dǎo)致的光室污染造成強(qiáng)度下降，且可以避免誤操作引起的光學(xué)系統(tǒng)污染。

7. 同軸自旋式氣路激發(fā)臺，具有自旋氣路，激發(fā)充分，激發(fā)千次無需清理，大幅度減輕工作量。

8. 創(chuàng)新的曲線智能跳轉(zhuǎn)技術(shù)，拓寬同一分析程序下分析元素范圍。根據(jù)樣品的分析值在后臺智能選擇分析譜線，提高分析元素準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。

9. 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，界面設(shè)計(jì)簡潔直觀，易于操作，為用戶帶來便捷、流暢的操作體驗(yàn)。